“去年我们在这里种下力争系统半导体世界第一的愿景，今天终于迈出了漫长旅程的第一步。”
20日，三星电子副总裁李在镕来到京畿华城工厂内的V1生产线，强调了上述内容。V1生产线是三星电子最早的极紫外线(EUV)专用生产线。从本月起正式开始正式启动，7纳米以下进入半导体生产。
EUV是半导体光刻工程中使用的电磁波。波长为13.5纳米，仅为利用在现有工程技术上的氟化氩光源的14分之1。通过更加细致的电路，可以将半导体芯片制作得更小，提高生产效率。这就是被称为超细微工程核心技术的原因。
当天，李在镕亲自察看生产线的同时表示:“不要停止挑战，让在这里制造的小型半导体包含对人类社会做出贡献的梦想。”
李副总裁的上述发言可以解释为，就最近从高通获得的5G调制解调器芯片的生产合同，不仅称赞了职员们的辛苦，还强调了培养系统半导体的意志。
三星电子计划生产部分高通骁龙 X60芯片。据悉，三星电子将采用最新的半导体制造工艺——5纳米工艺进行生产。高通方面表示:“第一季度将向客户发送X60调制解调器芯片的样品。”
业界评价说，此次订单是三星电子在非存储器领域取得的具有深远意义的成果。三星电子去年发表《半导体展望2030》称，将向系统半导体投资133万亿韩元，同时将聘用1.5万人等，支援培育生态环境。
随着进入第4次产业革命时代，系统半导体的用途预计将会暴增。据预测，在人工智能(AI)和自主行驶车辆等多种未来产业中，需求可能会激增，因此三星电子将此指定为未来增长动力，以代替此前的主力事业——存储器半导体。三星电子去年确保了IBM、英伟达、AMD等全球信息技术(IT)企业的客户公司。
据市场调查企业TrendForce透露，以去年第四季度为准，三星电子的代工市场占有率为17.8%，居世界第二位。台湾TSMC以52.7%的占有率占据一半以上。
三星电子计划在EUV工程中以比TSMC领先一步的优点来展开追击。继2018年批量生产7纳米之后，今年的目标是批量生产5纳米，明年的目标是批量生产3纳米。
实际上，作为新年第一个经营步伐，李副总裁也选择了华城事业场内的半导体研究所。李在镕听取有关3纳米工艺的报告后，还与总经理团讨论了下一代半导体战略。
当时李副会长嘱托道:“过去的业绩不能保障未来的成功”，“果断地废除错误的惯例和思考，开拓新的未来”。公司方面解释说，三星电子再次与职员共同培养在系统半导体领域也要成为世界第1位的梦想，坚定了实现目标的意志。
【图片来源 三星电子】
